清華大學JACS：超高感光度光刻膠制備方法

光刻膠是集成電路芯片大規模制造的關鍵材料。然而，較低的光/電子能量轉換效率嚴重限制了光刻膠的產量。硫醇-烯反應作為一種光引發的自由基加成反應，由于其極高的效率，在化學領域被廣泛稱為點擊化學。清華大學核能與新能源技術研究院新型能源與材料化學團隊介紹了一種利用快速硫醇-烯點擊化學實現超高效納米制造的點擊光刻策略。這種通過實現超高功能性材料設計而促進的新方法能夠在極低的深紫外暴露劑量（例如7.5 mJ cm^–2）下對含金屬納米團簇進行高對比度成像，這與傳統的光刻膠體系相比所需曝光劑量低10-20倍。同時，使用電子束光刻也在低劑量下獲得了45nm的密集圖形，揭示了這種方法在高分辨率圖形化中的巨大潛力。該研究結果展示了點擊光刻的高靈敏度和高分辨率特性，為未來的光刻設計提供了靈感。上述研究成果以Exceptional Light Sensitivity by Thiol–Ene Click Lithography為題發表在Journal of the American Chemical Society上。論文的共同通訊作者為清華大學核能與新能源技術研究院新型能源與材料化學實驗室徐宏副教授和何向明研究員，第一作者為清華大學博士后王倩倩。

【數據概覽】

圖1.點擊光刻策略示意圖

圖2.點擊光刻結果

論文鏈接：

https://pubs.acs.org/doi/10.1021/jacs.2c11887

本文參考內容：

https://www.tsinghua.edu.cn/info/1175/106918.htm