中科院電工所成功研制25T全超導磁體 系世界第四個實現的機構
日前,記者從中科院電工研究所獲悉,該所王秋良研究部采用自主研發的高溫內插磁體技術,研制成功國內首個25T全超導磁體,成為繼日本理化學研究所(27.6T)、美國高場實驗室(27.0T)和韓國蘇南超導公司(26.4T),世界上第四個實現25T以上全超導磁體的研究機構。
據介紹,其它高溫超導帶材制作的內插超導磁體相比,ReBCO超導磁體具有更高的上臨界磁場和臨界電流,運行穩定性更高,更容易獲取極高磁場。 但ReBCO帶材的結構是層狀的,在極高場條件下由于應力集中可能會出現分層的現象,導致磁體損傷,不能穩定運行。
王秋良研究部長期致力于研究極高場內插磁體技術研究,針對ReBCO極高場內插磁體的應力集中問題,采用設計精巧的綁扎裝置對磁體外層導線予以保護,并利用分級設計的方式提高端部線圈的安全裕度,使整個內插磁體的運行裕度得以大幅提高。經測試,在液氦測試條件下,內插磁體在運行電流達到194.5A時,在15T的超導背場中產生了10.7T的中心磁場,從而實現了中心場為25.7T的全超導磁體。
專家指出,25.7T極高場全超導磁場的實現,標志著我國在研制高場內插磁體技術方面走到了世界前列,也標志著我國已經掌握極高場磁體的建造技術,為后續研制30T極高場科學裝置和GHz級別的譜儀磁體奠定了基礎。
材料牛編輯整理。
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