Nature Nanotechnology:逐層堆疊的異質外延范德華半導體超晶格
【背景介紹】
幾十年來,半導體超晶格(SLs)作為現代電子學、光子學和顯示技術中各種異質結器件的材料平臺,是原子厚度范圍內兩種交替半導體的周期性分層結構。這種突出的SLs的例子可以用于具有高電子遷移率的晶體管的III-ⅴ族化合物半導體激光器(GaAs/AlGaAs和GaInAs/AlInAs)和量子級聯激光器,用于發光二極管的GaN/AlGaN?SLs和用于應變硅互補金屬氧化物半導體的Si/Ge?SLs。其中,組成半導體通過晶格匹配相干性在異質界面上“共價鍵合”,其中二維(2D)電荷載流子根據層間耦合強度的程度形成不同的量子阱(QW)結構。與此同時,范德瓦爾斯(vdW)半導體通常源于過渡金屬二硫化物(TMDCs,MX2,其中M和X分別代表過渡金屬離子和硫屬元素離子),自然會在無化學鍵的vdW間隙中產生單位單層(ML)內的固有2D限制。這種vdW半導體ML顯示出不同的電子結構,因此它們有希望通過將各種結構精確地集成到SLs中來創造一種新的vdW QW結構。盡管對不同vdW ML的雙層疊層進行了廣泛的研究,以研究新類型的層間激發,例如層間激發和扭轉角相關的強相關性,但對vdW ML的QW態了解較少,主要是因為它們不能通過精確的逐層膜合成獲得。
近日,浦項科技大學的Moon-Ho Jo等人在Nature Nanotechnology上發表成果,題為“Heteroepitaxial van der Waals semiconductor superlattices”。報道了具有可編程堆疊周期的vdW SLs的原子逐層外延生長,該SLs由兩種以上不同的TMDC MLs組成,例如MoS2、WS2和WSe2。通過金屬-有機化學氣相沉積在近平衡極限下使用動力學控制的vdW外延,實現了精確的逐層堆疊,沒有層間原子混合,形成了可調諧的二維vdW電子系統。例如,通過利用相干二維vdW異質界面上的一系列第二類能帶排列,證明了谷極化載流子激發——vdW ML半導體中最顯著的電子特征之一——在光激發上與 (MoS2/WS2)n SLs中的堆疊數n成比例。
【圖文導讀】
圖1. 單層堆疊的MoS2/WS2?SLs 異質外延
a. 從1到7層單層堆疊結構的橫截面HAADF-STEM圖像。
b. MoS2/WS2SLs橫截面HAADF-STEM圖像。
示意圖(左)和亮場STEM圖像(右),以及相干SL堆棧(c)和非相干堆棧(d)的相應原子模型模擬。
e. SLs的原子晶面圖解。
f. 9層堆疊的MoS2/WS2SLs的2D GI-WAXD圖。
g,h. MoS2/WS2?SLs和9層MoS2沿qz?(g)和qxy?(h)方向的1D線切割圖。
圖2. 周期可調的vdW SLs的設計異質外延
a-e. 橫截面的HAADF-STEM圖。?a. MoS2/WS2?SLs7層;b. MoS2/WS2?SLs 8層; c. WSe2/WS2?SLs 6層;d.?WSe2/MoS2/WS2三層;e. WSe2/graphene/WS2?3層。
圖3. WSe2/WS2/MoS2三層面內晶體織構的異質外延演化
a-c. 金屬有機源原子的熱力學能量圖以及單層堆疊的外延生長模型a: 第一次MoS2;b:第二層WS2;c. 第三層WSe2。
d-f.?c-藍寶石上部分覆蓋和完全覆蓋的MoS2單層,在MoS2上的WSe2單層(e),?在WS2/MoS2上的WSe2?(f)的一系列原子力顯微鏡圖像和沿虛線的高度分布。
g-k. 帶有相應原子模型的面內HAADF-STEM圖像:(g)在AA’疊層區域的WS2/MoS2雙層;(h)AC堆棧;(i)非相干堆棧;(j)在AA′和AC疇之間的界面處;(k)AA’和AA’結構域。
圖4. II型二硫化鉬/二硫化鎢單晶體中的谷極化層間激發
a. 從一系列(MoS2/WS2)nSLs(頂部)以及MoS2MLs和WS2?MLs(底部)收集的光學吸收光譜。
b,c. 真實空間(b)和動量空間(c)中用光學CD激發谷偏振的圖解。
d. 在77 K下從一系列(MoS2/WS2)nSLs獲得的時間分辨CD響應。
小結
本文報道了用逐層異質外延方法生長周期可調的vdW半導體SLs。驗證了SLs中vdW異質界面上的相干原子堆積順序。這種相干vdW空間光調制器展示了一套新的可調諧2D電子系統,為研究各種固態現象提供了挑戰性的機會,以實現未探索的特性和功能。通過外延生長SLs的designer vdW,可以作為一種新型QW態的可擴展平臺,具有獨特的vdW接口。
本文由納米小白供稿。?
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